成功大學「工業4.1」與「無光罩式UV 曝光機」亮相德國漢諾威工業展
發佈日期 :
2019-04-02
德國漢諾威工業展(4月1日至5日)為全球最具指標的工業應用技術展覽，成功大學過去在智慧製造、機械工程等領域皆有貼合產業需求的研發成果，成功大學國際產學聯盟偕同校內技術前進德國漢諾威工業展，包括智慧製造研究中心鄭芳田主任與機械工程系李永春教授技術團隊，展會上吸引許多國內外廠商洽談，也將成大產業應用技術推向國際。
「工業4.1」將智慧製造提升到不良率0%之完美品質
鄭芳田主任提出「工業4.1」方案，把工業4.0系統平台，加上全自動虛擬量測(AVM)、智慧型預測保養(IPM)、智慧型良率管理(IYM)、和先進製造物聯雲(AMCoT)等技術，就能做到產品接近零缺陷之境界。以曾獲2017 IEEE CASE最佳論文獎的先進製造物聯雲(AMCoT)架構為基礎，加上團隊陸續研發的智慧型預測保養(IPM)、智慧型良率管理(IYM)等，已成功地運用於多家半導體、面板、和太陽能等高科技產業的廠商，並也推廣到汽車輪圈、航太、吹瓶機、電動黃油槍及碳纖等相關之傳統機械產業廠商。
成大智慧製造研究中心負責主導與協調四個研究組 (E化製造組、RO組、AM組與 IBDI組)，由各研究組提供關鍵實現技術共同完成「智慧製造系統」之實作，同時成立國際合作組，負責推廣本中心之技術至國外。除此之外，也設立人才培育組並開設智慧製造系統證照班以培養智慧製造人才和提拔後進。
製造所鄭芳田教授與國際業者說明「工業4.1」技術
高精度無光罩式UV 曝光機：IC 載板與先進封裝的最適解決方案
機械工程系李永春教授發展高精度無光罩式UV 曝光機可應用於半導體積體電路、IC 封裝、印刷電路板...等等，還有平面顯示器、發光二極體、光通訊、光電元件…等延伸的相關產業。提供了IC載板與先進封裝產業在無光罩式微影製程技術受到大廠壟斷的情況下有更好的選擇，李永春教授也將此技術衍生新創公司，成為台灣第一家可以技術自主與自有品牌的無光罩曝光機生產製造廠商。
此外李永春教授也在此次展會中展示將光罩式UV 曝光機應用於滾筒模仁製程技術與奈米壓印微影技術，以自行建置的準分子雷射微加工機台，製造此關鍵零組件，通過精確的機械對位和精準控制滾筒的旋轉和平台的縱向掃描，可以在光阻層上實現任意的紫外光圖案。而奈米壓印微影技術針對單一均勻DFB雷射二極體布拉格光柵，實現局部相位移DFB雷射二極體布拉格光柵於InP晶圓之奈米結構製作。
機械工程系李永春教授團隊解說高精度無光罩式UV 曝光機技術
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漢諾威工業展攤位：Hall 2, Stand B58
展出日期：2019年4月1日至5日
聯絡窗口：成大國際產學聯盟黃藍逸(06)2080325#203
