成功大學與芬蘭Picosun Oy公司6月6日在成功大學微奈米科技研究中心進行國際研究合作成立聯合研發中心，藉由Picosun在原子層沉積（ALD）機台的領先技術與豐富經驗，再加上微奈米中心的優良場域與研發能量，共同開發新技術，提供學術研究所需，並且推動科技產業之研發應用。

此次微奈米科技研究中心向Picosun購置最新研發技術之原子層沉積系統，其中包含電漿系統及Ozone系統，為全台灣最先進的原子層鍍膜設備之一，未來雙方將利用最先進之ALD設備以及整合雙方資源，共同開發低溫薄膜製程與創新薄膜材料。

成大研發長謝孫源致詞表示，成功大學致力創新研究及產業鏈結，更努力與國際接軌，成大-Picosun聯合研發中心將提供學界及產業界最新的研發成果與服務。微奈米中心主任陳引幹指出，微奈米科技研究中心，擁有71部各式微奈米製程與檢測設備儀器，是全國服務與研究績效最好之研究中心，而與Picosun成立聯合研發中心後，除了讓校內師生能有機會接觸到最先進的ALD薄膜技術外，同時能整合中心研發資源，提升研發能量，並擴大服務給相關領域廠商，提升產業價值。

對於與成大合作，Picosun全球CEO Kustaa Poutiainen表示，Picosun公司在ALD長期致力於發展先進微電子，及光電子元件製造的尖端技術。而成大微奈米中心也同時擁有製程、薄膜、檢測團隊， 對於未來新一代產品的研發將更接近實用面。

成大-Picosun聯合研發中心，將提供完善的ALD薄膜技術，供學術單位使用，並結合最先進之電漿系統及Ozone系統，積極開發全新薄膜材料，與低溫製程技術，服務矽基半導體、化合物半導體、功率元件、封裝、 LED、太陽能、平面顯示器、積體光學、生醫等重要相關產業。